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湖北松滋子公司成立
     2016年7月初,松滋市环保局在局长李刚的率领下,专程来我公司考察,他们对我公司近年来在造纸化学品领域所取得的成绩,表示赞赏,并邀请我公司去松滋投资...
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对乙酰氧基苯乙烯
对乙酰氧基苯乙烯


英文名称:(4-ethenylphenyl) acetate
芳香族化合物 化学药物

CAS :   2628-16-2 精确质量 :   162.06800
分子式 :   C10H10O2 logP :   2.25490
分子量 :   162.18500 PSA :   26.30000

中文名称:
4-乙酰氧基苯乙烯
中文别名:
4-乙烯基苯基乙酸酯;
对乙酰氧基苯乙烯;
乙酸-4-乙烯基苯基酯;
英文名称:
(4-ethenylphenyl) acetate
英文别名:
Acetic Acid 4-Vinylphenyl Ester;
para-acetoxystyrene;
4-OAc-C6H4CH=CH2;
4-Acetoxystyrene;
Phenol,4-ethenyl-,acetate;
4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作为光致抗蚀剂(光刻胶)主要成分的聚对羟基苯乙烯。聚对羟基苯乙烯系列的化学增幅型光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品,是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片的关键技术之一。光蚀刻技术由生产0.3~0.28μm线宽,发展到改用深紫外光(波长248nm)生产0.18μm线宽,更可通过超深紫外光(波长193nm)刻画线宽达0.11μm的微细回路。248nm光刻胶通常采用聚对羟基苯乙烯衍生物为成膜树脂,芳基碘鎓盐或硫鎓盐作为光致产酸剂,运用化学增幅技术,在光作用下光致酸发生剂释放出酸,然后酸催化使聚合物交联(负胶)或发生脱保反应(正胶),从而使感光灵敏度极大地提高。


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